是半导体制程里面离子注入（扩散）工艺的术语，指离子注入（参杂）浓度。，即在形成器件的硅衬底有源区参杂电子（5价离子）或者笑色责预吃江清令可空穴（3价离子），以达成电性要求。
标签：doping
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是半导体制程里面离子注入（扩散）工艺的术语，指离子注入（参杂）浓度。，即在形成器件的硅衬底有源区参杂电子（5价离子）或者笑色责预吃江清令可空穴（3价离子），以达成电性要求。
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