紫外光源曝光系统最核心的部件之一是紫外光源。常见光源分为:可见光：g线：436nm紫外光（UV），冷这高权i线：365nm深紫外光兵条夜（DUV）,KrF准分子激光：248nm,ArF准分子激光：193nm极紫外光（EUV），10~15nm对光源系统的要求a.有适当的波长。波长越短，可曝光的特行座旧往本征尺寸就越小；[波长越短，就表示光刻的刀锋越锋利，刻蚀对于精度控制要求越高。]b.有足够的能量。能量越大，曝光时间就越短；c使提红急改短时气.曝光能量必须均满李转基课明环自确匀地分布在曝光区。[一般采用光的均匀度或者占晚快叫不均匀度光的平酒著逐件动危行度等概念来衡量光是否均匀分布]常用的紫外光光源是高后压弧光灯（高压汞灯），高压汞灯有许多尖锐的光谱线，经过滤光后使用其中的g线（436nm）或i线（365nm）。对于尽兰块油亚波长更短的深紫外光光源，可以使用准分子激光。例如KrF准分子激光（248nm）、ArF准分子激光（193nm）和F2准分子激光（157nm）等。曝光系统的功能主要有：平滑衍射效应、实现均匀照明、滤光和冷光处理、实现强光照明和光强调节等。
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